一、DENSOKU 瑩光 X 射線膜厚儀 EX-851適用行業(yè)
（一）電子制造行業(yè)
在電子元器件生產(chǎn)中，從微小的芯片到復雜的電路板，各類薄膜、鍍層的厚度對產(chǎn)品性能影響重大。例如，芯片引腳的鍍金層厚度關(guān)乎電信號傳輸?shù)姆€(wěn)定性與可靠性，若厚度不均或不達標準，可能引發(fā)接觸電阻增大、信號衰減甚至短路等問題。EX - 851 憑借其高精準度，能夠?qū)﹀兘饘印㈠冦y層以及各類絕緣薄膜等進行精確測量，幫助企業(yè)嚴格把控生產(chǎn)工藝，確保電子元器件的高質(zhì)量產(chǎn)出。在印刷電路板（PCB）制造過程中，阻焊層、銅箔厚度等參數(shù)的精確測量對于保障電路板的電氣性能和使用壽命至關(guān)重要，EX - 851 可以為 PCB 生產(chǎn)企業(yè)提供可靠的數(shù)據(jù)支持，助力生產(chǎn)流程優(yōu)化。
（二）半導體行業(yè)
半導體制造堪稱現(xiàn)代科技的核心領(lǐng)域，其對薄膜厚度控制精度的要求近乎苛刻。芯片制造工藝中的光刻、蝕刻、鍍膜等環(huán)節(jié)，每一步都依賴于對薄膜厚度的
準掌握。光刻膠薄膜厚度的細微偏差可能導致芯片電路圖案的精度受損，進而影響芯片的性能和成品率。EX - 851 能夠滿足半導體制造過程中對不同材質(zhì)薄膜（如二氧化硅、氮化硅、金屬薄膜等）厚度的高精度測量需求，為半導體企業(yè)的工藝研發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)提供關(guān)鍵的測量保障，助力推動半導體技術(shù)向更高集成度、更小尺寸方向發(fā)展。
（三）汽車制造行業(yè)
汽車制造涉及眾多零部件的生產(chǎn)與組裝，表面涂層和鍍層在提升零部件耐腐蝕性、耐磨性以及美觀度等方面發(fā)揮著重要作用。汽車車身的電泳涂層厚度決定了車身的防銹能力，而輪轂、發(fā)動機零部件等表面的鍍鉻層、鍍鋅層厚度則影響著其耐磨性能和外觀質(zhì)量。EX - 851 可用于汽車生產(chǎn)線上對各類零部件涂層、鍍層厚度的在線檢測或抽檢，確保每一輛汽車的品質(zhì)符合高標準，延長汽車零部件的使用壽命，提升整車的可靠性和安全性。
（四）航空航天行業(yè)
航空航天領(lǐng)域?qū)α悴考馁|(zhì)量和性能要求高，任何微小的瑕疵都可能引發(fā)嚴重后果。飛行器的發(fā)動機葉片、起落架等關(guān)鍵部件，通常會采用特殊的涂層來提高其耐高溫、耐磨損和抗腐蝕性能。這些涂層的厚度必須嚴格控制在規(guī)定范圍內(nèi)，以確保部件在極工況下的可靠運行。EX - 851 的高精度測量能力能夠為航空航天企業(yè)在零部件制造和維護過程中，準確測量各類涂層厚度，為航空航天產(chǎn)品的質(zhì)量和安全提供堅實保障，助力飛行器在高空、高速、高溫等惡劣環(huán)境下穩(wěn)定飛行。
（五）光學鍍膜行業(yè)
光學鍍膜廣泛應(yīng)用于光學鏡片、相機鏡頭、顯示屏等產(chǎn)品中，旨在改善光學元件的光學性能，如增透、減反、分光等。不同光學功能的實現(xiàn)依賴于精確控制鍍膜的層數(shù)和每層薄膜的厚度。例如，相機鏡頭上的多層光學鍍膜，其厚度精度需達到納米級別，才能有效減少光線反射，提高成像質(zhì)量。EX - 851 能夠精確測量光學鍍膜的厚度，幫助光學產(chǎn)品制造商優(yōu)化鍍膜工藝，生產(chǎn)出更高性能的光學產(chǎn)品，滿足消費者對于高清、高畫質(zhì)光學設(shè)備的需求。
（六）五金裝飾行業(yè)
在五金裝飾產(chǎn)品（如門把手、衛(wèi)浴五金、燈具等）的生產(chǎn)中，為提升產(chǎn)品的美觀度和耐用性，常采用電鍍、噴漆等表面處理工藝。鍍層或涂層的厚度不僅影響產(chǎn)品的外觀色澤和質(zhì)感，還關(guān)系到其抗腐蝕能力和使用壽命。EX - 851 可幫助五金裝飾企業(yè)在生產(chǎn)過程中，對各類表面處理層的厚度進行精準測量，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，提升產(chǎn)品在市場上的競爭力，為消費者提供美觀且耐用的五金裝飾產(chǎn)品。
二、DENSOKU 瑩光 X 射線膜厚儀 EX - 851 產(chǎn)品優(yōu)勢
（一）測量精度高
EX - 851 采用先進的熒光 X 射線技術(shù)，能夠精準探測材料表面膜層對 X 射線的吸收、散射和熒光發(fā)射特性，通過復雜而精確的算法，將這些物理信號轉(zhuǎn)化為極其準確的膜層厚度數(shù)據(jù)。其測量精度可達微米甚至納米級別，滿足了眾多對膜厚精度要求苛刻的行業(yè)需求，如半導體、光學鍍膜等領(lǐng)域。無論是極薄的納米級薄膜，還是較厚的涂層，EX - 851 都能提供高精度的測量結(jié)果，為產(chǎn)品質(zhì)量控制和工藝優(yōu)化提供可靠依據(jù)。
（二）測量模式多樣
該儀器具備自動和手動兩種測量模式，可根據(jù)實際測量場景和需求靈活切換。在全自動對焦模式下，用戶只需使用激光指示器將測量部件定位在指定位置，關(guān)閉儀器門后，測量平臺便會自動移動至測量點并執(zhí)行測量操作，測量完成后，平臺還會自動返回初始位置，整個過程高效便捷，大大提高了批量測量的工作效率。半自動對焦模式則在定位測量對象后，關(guān)閉門時平臺自動移動并聚焦，直至完成測量操作，這種模式適用于對測量過程有一定手動干預需求的場景，為用戶提供了更多操作選擇。
（三）自動測量功能強大
EX - 851 配備了自動測量階段功能，用戶通過鼠標即可快速將測量位置定位，極大地提高了測量定位的速度。若提前注冊測量位置，儀器便可進行連續(xù)自動測量，尤其適用于對多個相同或相似部件進行膜厚測量的場景，可大幅減少人工操作時間，提高測量效率。此外，該儀器還支持坐標校正和通道鏈接等功能，能適應(yīng)各種復雜的測量模式，并且標準板校準也可實現(xiàn)自動測量，進一步簡化了測量流程，降低了人為誤差。
（四）采用雙濾波器確保最佳測量條件
為始終獲取最高精度的測量結(jié)果，EX - 851 除采用數(shù)字濾波器外，還創(chuàng)新性地引入了機械濾波器（雙濾波器）。這兩種濾波器相互配合，能夠根據(jù)不同的測量對象和環(huán)境，自動調(diào)整至最佳測量條件，有效去除測量過程中的干擾信號，提高測量數(shù)據(jù)的準確性和穩(wěn)定性。無論是在實驗室環(huán)境下的精細測量，還是在工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場的復雜環(huán)境中，雙濾波器的應(yīng)用都能確保儀器輸出可靠的測量結(jié)果。
（五）報告創(chuàng)建功能豐富且便捷
儀器采用 MS - Windows 軟件系統(tǒng)，使得用戶能夠輕松捕獲測量屏幕畫面，并對測量數(shù)據(jù)進行高效處理和分析。其報告創(chuàng)建功能得到了極大增強，用戶可根據(jù)實際需求，快速生成包含測量數(shù)據(jù)、圖表、分析結(jié)果等豐富信息的專業(yè)報告。同時，多任務(wù)功能允許用戶在測量過程中同步進行報告創(chuàng)建等其他操作，大大提高了工作效率，方便企業(yè)對測量數(shù)據(jù)進行管理和存檔，滿足質(zhì)量追溯和生產(chǎn)流程優(yōu)化的需求。
（六）內(nèi)置多種準直器滿足不同測量需求
EX - 851 內(nèi)置了 5 種不同規(guī)格的準直器，最小部分可達 0.1φmm，能夠輕松實現(xiàn)對極小部件的膜厚測量，滿足了電子制造、半導體等行業(yè)中對微小零部件測量的特殊需求。除標準規(guī)格外，還提供兩種特殊規(guī)格的準直器供用戶選擇，分別為 “0.05, 0.1, 0.2, 0.3, 0.5" 和 “0.05×0.5, 0.5×0.05, 0.1, 0.2, 0.5"，用戶可根據(jù)具體測量對象的尺寸和形狀，靈活選用合適的準直器，拓寬了儀器的測量適用范圍，提高了測量的靈活性和針對性。
（七）具備自診斷與維護功能保障設(shè)備穩(wěn)定運行
儀器內(nèi)置了強大的自診斷功能，能夠?qū)崟r監(jiān)測設(shè)備的運行狀態(tài)，一旦檢測到設(shè)備故障或異常情況，可迅速進行故障分析并給出相應(yīng)的解決方案，幫助用戶及時處理問題，減少設(shè)備停機時間。同時，該儀器還增加了顯示 X 射線管使用時間和耐久時間的功能，為設(shè)備維護提供了重要參考依據(jù)，方便用戶提前安排 X 射線管的更換等維護工作，有效保障了設(shè)備的長期穩(wěn)定運行，降低了設(shè)備維護成本和生產(chǎn)中斷風險。
（八）可直觀顯示測量相關(guān)信息
在薄膜厚度測量過程中，EX - 851 能夠通過多通道頻譜分析的高速處理，在約 2 - 3 秒的極短時間內(nèi)，以簡單操作實現(xiàn)被測對象的頻譜顯示，幫助用戶直觀了解測量對象的材料特性和膜層結(jié)構(gòu)信息。此外，儀器可將 X 射線照射單元導入 Windows 屏幕進行顯示，并具備放大倍率變化功能，用戶可通過準直器改變顯示尺寸，清晰觀察測量部位的細節(jié)。同時，利用 3D 圖形顯示技術(shù)，能夠讓用戶一目了然地看到被測物體的鍍層厚度分布情況，為全面評估膜層質(zhì)量提供了直觀、豐富的數(shù)據(jù)可視化方式。
